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首发：~298.这不是必输的局吗？（第1章）
台积电之所以跟其他大厂拉开差距，最重要的原因就是在于林本间发明的浸润式光刻技术。
在这项技术出现以前，世界在微影领域的老大可是东岛的尼康，当时林本间提出来浸入式技术的可行性的时候，相当于打了尼康和ibm一众世界级大佬们的脸。
因为他们还在研究如何使用x光来进行光刻，因为x光比深紫外线的波长更短，可是林本间告诉他们，其实没有那么复杂，在现在的深紫光duv光刻机的基础上，加一点水浸润一下，通过折射角度的变化就能制造出精细度更高的芯片。
这无疑告诉他们，你们走的路是错的。
ibm和尼康如何能忍受这一点？
都已经投入了几十上百亿美元的研发资金了，突然被人质疑。
任何一项颠覆式新技术的出现，总会受到来自于传统势力巨大的阻力。林本坚的浸润式光刻，几乎被尼康、佳能、ibm等所有巨头封杀，尼康甚至向台积电施压，要求雪藏林本坚。
巨头的陨落，总是如出一辙。当年柯达最早生产出来了数码照相机，但是柯达却因为恐惧数码相机威胁到自己的胶片业务，做出决定——一定要藏好，不能让别人知道。
尼康的智商，在巨大的现有经济利益前消耗殆尽。
虽然现在尼康仍然占据着龙头老大的位置，但是曹阳知道，在不久后的将来，等到台积电的45纳米出现，阿斯麦光刻机在市场占有率上就会将尼康拉下马，让一个巨头陨落。
现在其实已经隐隐然有这种苗头了。
目前中芯国际虽然知道林本间采用了浸润式技术帮助台积电在60纳米以下取得了重大的突破，不过具体的做法和工艺技术，中芯国际是不知道的。
所以现在也是在摸着石头过河的阶段。
“浸润式技术从原理上来说并不复杂，不过还是那个问题，需要时间。”张如京有些愁闷地喝了一口酒，难受地说到，“我们正在尝试使用浸润式技术，明年提升到60纳米水准应该不成问题。”
使用浸润式技术进行芯片制作，就不需要进行多重曝光，良品率是有保障的，生产成本应该跟现在的90纳米芯片差不多。
所以即使明年博米没有45纳米的芯片，也能从中芯国际这边购买到60纳米。
不过曹阳肯定不会就此满足，博米的芯片设计还得继续深挖，要一直保持对苹果的领先，那么之后肯定要先引入台积电的45纳米芯片。
除非中芯国际能够弯道超车。
如果想要实现技术上的突破，超过台积电的话，还得从光刻机本身进行突破。但是我们国家目前为止，并没有能够独立生产光刻机的企业，准确来说是没有独立生产193纳米，甚至更短波段的光刻机水平。
现在是2006年，在光刻机领域当中，东岛的尼康才是老大，而未来的光刻机王者阿斯麦amsl还没有崛起，第一台euv光刻机要到2012年才能生产出来。
从时间上来说，或许我们还有机会。
至少曹阳是这么想的。
……
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