第325章 光刻厂的进度(3/3)

首发：~第325章 光刻厂的进度

其中难度最高也是最为复杂的，是阵列系统。

江野之前所了解的光的四重折射难题，就是阵列系统中的一个子课题。

而之前光刻厂那座发生爆炸事故，将宁未未炸伤的建筑。

也是一个由透镜组成的巨大光学元件阵列。

在光刻厂项目内部被称为透镜森林。

光刻厂的项目开始于七年前，实际上，在雷多来访龙国之前，整个项目几乎已经接近百分之百的成功了。

虽然还达不到大规模投产的水准。

但是小规模地试产芯片，已经是毫无阻碍。

只不过随着灯塔国串通内部间谍的一场阴谋，让透镜森林原地蒸发，所有人的工作功亏一篑。

而更要命的是。

在这个过程中，光刻厂项目也发现了原本采用的透镜组有致命缺点——

用来调整光学元器件精度的纳米级促动器对于参考光的反馈精度不足。

因此才会被别人稍微一动参数，就直接引动了不可逆的光压爆炸。

这不是技术力高低的问题。

而是在当前的现代科学进程，人类就没有捕获该等级反馈光精度的能力！

无论是龙国，灯塔国还是任何发达国家……甚至可预见的几十年内，都不可能有解决方案。

因此，整个项目不得不紧急转向，来研究新的阵列系统方案。

好消息是，这个新方案并非从零开始，只是在原方案的系统上进行改动，很多地方都只差临门一脚就能成功。

坏消息是。

这个临门一脚，也许只需要某个天才科学家一拍脑门，想出一个讨巧的解决方案，整个系统立刻就可以捋顺，明天下午就能解决。

但这种几率等同于零。

目前的情况是。

A提出了A变通方案，B部门根据A方案来进行适配，适配完发现原本的C方案也需要更改，等更改完，DEF等方案又开始出现冲突。

总之，所有人都在原地不断绕圈圈。

“江野专员。”

旁边一道声音打断了江野的沉思。