第230章 流片成功！(1/3)

首发：~第230章 流片成功！

沈永健的指令瞬间激荡在车间内。

刚刚因光刻机测试成功而松弛下来的气氛，立刻被一种更紧张，更严肃的气氛所取代。

二代步进式光刻机的制成虽然令人振奋，但于沈永健以及在场众人而言，一切只是开始。

光刻机的研制一直都只是为了最终的目标，集成电路，也即初代的“芯片”。

承载着数百个晶体管，电阻，电容及其互连关系的整个“系统”的第一次实体化尝试，真正的成败在此一举。

“伟森，江河，你们去把恒温恒湿柜里的‘581-3’掩膜版取出来！”

“戴好手套，动作要稳！”

闻言，张伟森和顾江河几乎是跑着去的。

小心翼翼地从特制的保护盒中取出那七片才制成的玻璃掩膜版。

五天的时间，最终的版图验证是在当天夜里靠着102机论证成功的。

后续的掩膜版制成难度同样极大，专门的特种石英玻璃也是哈工大雷校长上个月帮着突破的。

一共由307个晶体管构成的中规模集成电路，所需掩膜版一共七片。

每一片都代表着集成电路的一层结构。

倘若这次流片失败，不光掩膜版的工序需推倒重新再来，甚至连原先的版图包括最早的电路架构与设计都需要重新考量。

到底只是掩膜版工艺未达标，还有另外有系统性的漏洞，且没法通过计算机进行错误排除。

可以说，这次倘若失败，带来的工作量极大，起码还得一个月的时间才能进行下一次流片试验。

而放到后世，超大规模的集成电路芯片研制，往往一次流片失败，便是半年至一年以上的重新等待，是笔巨大的亏损。

“邵文同志，启动净化系统，检查环境参数。”

沈永健目光转向光刻机，开启正式的工作安排。

卓邵文熟练的操作下，车间顶部加装的空气净化系统发出低鸣，开始持续过滤着微尘。

“温度22.5度，湿度42%，符合光刻要求！”

…

“克勤同志，上硅片。”

周克勤此刻也已守在小型操作台旁，面前早已备好了数片经过严格清洗，氧化，并在涂胶机上均匀旋涂了光刻胶的硅圆片。

在沈永健的示意下，用真空吸笔小心翼翼地取出一片，精准地放置到光刻机的工作台上。