第422章改造成功，0.1纳米精度光刻机(3/3)

首发：~第422章改造成功，0.1纳米精度光刻机

但这一次系统明确要求他必须在设备附近守候。他看了看洁净车间里唯一一张椅子，拉过来坐下，背靠着墙，面对着光刻机。

最初的十几分钟什么动静都没有，光刻机安静地立在原地，控制面板上的指示灯照常闪烁。

然后他听到了声音。

不是机械运转的声音，而是更细微、更密集的声响——像是有无数极细小的零件在机器内部重新排列组合的底噪。

许锋站起来，走到光刻机侧面。

外壳的金属表面看不出任何变化，但当他用手掌贴上去的时候，能感觉到一种极细微的震颤从机器内部传导出来。

他往后退了一步，继续等。

改造持续了一个多小时，其间震动停了两次，每次停大约几分钟，然后又重新开始。

最后一次震动停止之后，光刻机控制面板的屏幕突然闪烁了一下，然后开始逐行刷新自检程序。

许锋走到控制面板前面，看着屏幕上的自检数据一行一行跳出来——光学系统精度校验通过，精密运动平台定位精度校验通过，曝光光源波长切换校验通过，控制系统人工智能模块加载校验通过。

屏幕上的最后一行字是：“光刻机改造升级完成。当前精度等级：0.1纳米。”

许锋低吼：

“什么??零点一纳米！”

许锋盯着那个数字看了很长时间。

然后他关掉控制面板，走到门口把主灯重新打开。

灯光照在那台银灰色光刻机上，机器外观和改造前几乎没有变化。

外壳还是原来的外壳，工位还是原来的工位，连控制面板的布局都和之前一模一样。

但内部的核心组件已经全部更新，极紫外光源的波长比深紫外光源短了近一个数量级，运动平台的定位精度从微米级跃升到了纳米级的极致，控制系统中还嵌入了一套人工智能自适应校正算法。

他知道这意味着什么，也知道这个数字一旦公布出去会引发什么级别的震动。

零点一纳米，这个精度已经超出了当前全球半导体行业公开报道的最高水平，而且超出的不是一星半点，是整整一代甚至两代的代差。

许锋关掉洁净车间的灯，轻轻带上门。