父改枪被判,上交光刻机能考编吗

第7章 最高荣誉(2/5)

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首发:~第7章 最高荣誉

“来来来,谁怕谁。谁赢了,谁先看!”

见两院士差点因为一块优盘打起来,陆凡深怕搞出血案,当即提醒道:

“两位院士,电子文件是可以复制的。”

王院士和孙院士顿时反应了过来,然后双方握手言和,

“拳法不赖。”

“你也一样!”

“要不同看?”

“同看同看!”

然后两位院士一人一台电脑,每人四只眼睛,死死盯着电脑屏幕里的文件内容。

【基于苯并噻唑啉酮光敏基团的可控梯度亚胺化聚酰亚胺合成方案!】

【核心单体设计-主链结构单元-二胺单体:4,4'-双(3-氨基苯氧基)-八氟联苯(F8APB)

功能:通过八氟异丙基结构提供溶解性(于γ-丁内酯/环己酮混合溶剂),降低介电常数(ε<2.8)】

【光敏功能单元-封端剂:2-苯并噻唑啉酮-5-丙烯酸酯(BTA-MA)

机理:丙烯酸酯双键在365nmUV下发生自由基交联,噻唑啉酮环通过[2π+2σ]光环加成形成交联网络】

【.....】

由于内容太多,甚至涉及到两位院士的盲区,但饶是如此,粗略看了一眼,孙院士和王院士就已经做了判定:

“路线的技术应该没有太大问题!”

“如果按照整套系统技术进行设计,可以少走十年弯路。完全不需要应用研究。”

“就能直接投入工业量产。”

纵然是波澜不惊、泰山崩于前不变色的大首長们也都纷纷动容了,威严的脸庞上均是露出了喜色。

直接量产!

太关键了!

“如果有集合全国之力,年产量能达到多少台?”一位大首長问道。

孙院士语出惊人:

“年产一千台!相比之下,荷兰的ASML只能年产70台EUV光刻机。”

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