父改枪被判,上交光刻机能考编吗

第4章 大首長要见你(1/5)

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首发:~第4章 大首長要见你

领导倒吸一口冷气,瑟瑟发抖,不敢多问了。

他可以预见,今夜因为这通电话,将会让多少大人物无眠。

一小时后。

京城空军基地,从吉普车内下来的王院士,对身边的国安局特派员嘱咐道:

“总之,里面的内容很震撼!建议你们能按国家最高级机密处理。”

“魔都方面,我会尽快证实!不用送了!”

“走了!”

嘱咐完,王院士迈着坚定的步伐走上了“胖妞”运二零。

“保重!”国安的特派员一脸敬重的目送院士上机,然后低声对助理吩咐道:

“邮箱账号格式是新郎邮箱。”

“现在立刻入驻新郎公司,凡是云端备份那份邮件的服务器,一律搬到局里,对看到邮件的人进行守密训练。”

“其次,让金陵方面的兄弟配合一下,先问一下那位刘院士。”

“最后,好好查查邮件的ip地址。我有预感,刘院士不可能有时间去研究光刻机!”

“务必找到真正发邮件的高人!”

助理手上的笔飞快。

特派员问:“都记下来了?”

助理点头:“记下来了。”

特派员说:“重复一遍!”

助理连忙重复了一句。

---

一架运二零在夜色笼罩下飞往魔都,而两架歼20负责伴飞护卫。

机舱内,王院士依旧盯着邮件复印稿,一丝不苟的盯着。

......

魔都微电子装备集团,国家光刻设备工程技术研究中心,灯火通明。

对于【DUV光源技术】的攻克已经到了“临门一脚”的关键时刻。

整个微电光源项目组全体人员鏖战三年八个月日夜,只为今夜。

“孙院士,幸不辱命,Arf(氟化氩)深紫外光的准分子激光器数据,已超越ASML公司DUV光刻机光源。

“分辨率小于等于65nm,套刻精度小于等于8nm。工业级芯片量产精度28nm!”

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