184半导体的困境(3/3)

首发：~184半导体的困境

老美的底子厚能输得起，但是他们输得起吗？答案是否定的，那会导致几十年改革开放的成果付之东流！

而且欧美也不会眼睁睁地看着你实现技术突破的，他们也会集中力量展开一场声势浩大的半导体领域的科研竞赛…绝对不会让你在这个领域实现超越的。

众所周知，攻擂比守擂要难得多，也更加消耗人力物力，那么他们真的做好准备打这一仗了吗？答案是否定的，最起码以他的地位没有得到什么消息。

再加上他们的人才更多，更牛，科研资金更加充沛…所以难度非常高。而且很多的技术不是你实现了攻关就可以使用的，还涉及到专利的问题。

大家虽然没办法去把蘑菇蛋申请一个专利，没办法给航母和飞机申请一个专利，但是光刻机的专利确实可以申请，而且专利费还很贵！

这东西跟航母、战斗机不一样。航母，战斗机你就算仿造别人的也没法起诉侵犯专利。光刻机你要是用同样的原理，光是赔专利侵权就要倾家荡产。

至于asml现阶段的技术，就算华国造出一模一样的东西来，还有专利的麻烦在那里，要规避这一堆专利而商业化几乎做不到，那一整条半导体联盟的市值有几万亿美元，他们所组成的专利护城河几乎是亚马逊河那种级别的。

所以，如果从大的笼统的方面来说，华国用新的芯片制造技术超越台积电还是可能的，但是道路却是极为曲折的。

大家可能对所谓芯片制造不太了解。这么说吧，如果欧洲一夜之间蒸发了，老美想要重新造出性能相似的光刻机来，至少需要五年！

从这里看，那一帮子老牌贵族还是有点东西的，不像我们这里的正黄旗，只剩下了几尺又臭又烂的裹脚布，纯粹恶心人。

所以华国要造新型euv光刻机并不是华国单挑老美，而是华国单挑外国！别的不说，高性能的滤光片，对极端紫外线高反射率的镀膜，耐用的商业激光器……没有一个是华国自己能够造出来的！更确切的说，不是华国造不出来，而是老美有很多也造不出来！

镀膜、滤光片、半反半投镜……这些技术低性能也就罢了，高性能的产品都是一年一年试出来的，欧洲起步早，试验的多就是世界最强！

华国起步晚，短时间内就是造不出来。因为，没有这些基础器件，谈造euv光刻机就是天方夜谭！

所以造光刻机跟造航母不一样，航母并没有在全球的产业链里面。而光刻机是全球产业链整合出来的产品。针对华国的技术封锁如果没有松动，需要重复做的事情太多，绝非十年二十年，靠华国单打独斗能成的。

而在十几年二十几年之后，你攻克的产品也已经过时了，人家又有更好的产品了，你依然还是落后…

这大概就是马太效应了，强者恒强！

假如大家还觉得市场、钱、政策能够式地造出光刻机，那就是绝对错误的认识，国家那么多专家组成的智囊团，绝对不是摆设，如果有利的事情，国家绝对不会去做，如果没有，那大概就是得不偿失，利益不够吸引人，付出与收获不成正比。

当然euv作为新一代的技术能够实现7nm、5nm的光刻，虽然更加先进，但是如果真的台积电被迫不能给华国代工，我们依然可以使用老一点的技术。使用老一点的技术也足以保证国内正常的需要。这也是为什么国家在这个领域没有那么大的动力和决心的一个原因。

至于手机和电脑等等商用的芯片，既然自己制造比买的要贵得多，而且性能还比不上人家，那么就只能先紧着军用和科研使用了…这也是和世界接轨需要承受的代价之一吧。

总之呢，euv光刻机可以看作是美元霸权的衍生品。美元霸权还在，华国就无法在这一领域取得重大突破。当且仅当euv光刻机所需的基础配件能够自由进口到华国的时候，华国才有可能在这个领域有突破。

最后，我再强调一个概念！可以商用化的产品跟实验室里能够实现之间差了十万八千里！实验室里实现的意思是不考虑成本，不考虑稳定性，能够有那么一次或者两次做成。

商用产品的概念是：稳定、高效、可控、能赚钱！

就euv光刻机来说，华国做得最好的大概是长春光机所，也就是搭建了一套实验室的euv光源设备，而且从技术的实现来看，他们选择了另外一条技术路线，euv输出的可控性必然不足，商业化依然有巨大瓶颈。

总之呢，如果技术不革新，这一块儿华国想要后来者居上几乎做不到。至于三星和台积电，它们是使用euv光刻机的厂商，如果大陆都没有足够的euv光刻机可用，谈什么收回国内市场，超过他们呢？