第267章 贡献(1/3)

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新的理论、新的技术，意味着一切旧的理论和技术都要推倒重来。

原本的芯片，其原材料是以硅为主的硅基芯片。

而光刻机，并不是按字面的意思去理解，用光来雕刻。

激光雕刻机？

不是的。

光刻机它其实类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

而芯片7nm、10nm指的是采用7nm、10nm制程的一种芯片。nm是单位纳米的简称。

比如7nm，指的是形成的互补氧化物金属半导体场效应晶体管栅极的宽度，也被称为栅长。

栅长最小，技术要求越高，其芯片性能也越好。

光刻机生产集成电路的大概流程，先用模版去除制作硅半导体电路所用的硅晶片的保护膜。

再将硅晶片浸泡在腐化剂中，让失去保护膜的部分被腐蚀掉后形成电路。还要用纯水洗净残留在晶圆表面的杂质。

这是传统的芯片制造工艺。

现在，更小的芯片制造已不是以硅为主，而是石墨烯。

石墨烯芯片作为电流载体，其速度更快，等比缩小更优异。

现在更小更快的芯片，就是以石墨烯芯片为研究方向。

而玛雨星帝国的低级芯片技术，就是以石墨烯为主的一种新型材料。

金石墨烯！

由此看来，地球对芯片技术的研究方向其实也是对的。从硅基芯片到石墨烯芯片。再未来，是否能到金石墨烯芯片，就不得而知了。

也许会找到另一种材料，也许就是金石墨烯材料。

按照墨华兑换出的技术理论说明，石墨烯的极限也就是1nm。想要再发展到1nm以下，那就是难上加难了。

不是石墨烯做不到，而是用传统的工艺方法，做不到。

之前说过，多少nm说的是形成的互补氧化物金属半导体场效应晶体管栅极的宽度。

1纳米相当于五万分之一头发粗细。

这么细的宽度，还要再细，传统工艺的制造工具的精度上就无法保证。

所以，想要低于1nm，不仅要改进材料，还要改进工艺。