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首发：~第184章 光刻机技术的布局
国家对此项技术的研发投入也开始变的谨慎起来。
“没事，这些技术都是我抽空看书乱想出来的，行就行，不行就算，主要是为了申请专利用的。”曹焱故意把这一切说的很简单。
“是不是？”宁凝雪可不是那么好骗的人，她已经看见曹焱拿出两种逆天的技术出来了。
曹焱笑了笑，没有正面回答。
宁凝雪猜的没错，u盘里面的技术全是未来2008到2010年光刻机的主要技术，这个时期也是光刻机技术的一个分水岭的年代。
曹焱这个u盘中，就包括了2008年时最最关键的极深紫外线技术的全套理论，也就是euv技术，这个技术专利也是光刻机龙头阿斯麦一家独大的根基。
当年它来恶心自己国家，这次曹焱觉得自己不把那段时间出妖蛾子的国家全都恶心死。
自己曹字倒过来写。
当然曹焱也并没有多放很多技术进去，大概就是到了2008到2010年左右的光刻机一些关键性的专利技术进去。
只是为了是让自己能顶住米国的制裁，同时也能为自己争取到一定的时间，抱着其他芯片公司大家一起死心思。
太过于逆天的技术，他并没有拷贝出来，自己也没必要为他们点亮科技树。
而自己偷偷的发展其它学科的芯片，比如碳基芯片，量子芯片。
如今的光刻机技术还是湾积电的林本坚博士提出的浸入式光刻技术。
早先全球的半导体工业都为超越193nm光刻绞尽脑汁，但却先后失败。只有林博士提出的这个相对简单的办法最后成功。
把间距提高到了157nm，当然后来又到了126nm，不过在极深紫外线技术也就是euv技术出现之前，那也差不多也是光刻机的极限了。
虽说自己担忧，可看见曹焱笑的轻松，宁凝雪也放下心来，只要专利申请在手，国家看见可行度，还怕不会支持吗？
“行，我会尽快帮让人帮你申请好专利的。”宁凝雪小心的接过曹焱递过来的u盘：“我们去看看无人机的样机与流水线，你看看还有什么地方需要改进的。”
……
在宁凝雪的带领下。
两人走向了其中一间最近才改进好的厂房前。
还没靠近，曹焱便看见了熟人。
钟国忠与他的那些学生还有一些穿着技术员工作服的工程师，正围坐在一台台电脑前分析着空地上那一台台起起落落的无人机，对比着他们飞行时产生的一个个数据，接着在电脑中做出细微的调整。
此时他们好像进行到了一个关键的节点。
宁凝雪与曹焱没有打扰他们，而是来到了一旁的树荫下，远远的看着。
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