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首发：~第640章 山寨机之父，要换人了！
这个局面，让一些关注南山设备的人，也算是松了一口气。
“曹总，我们的蚀刻机短时间内要出口估计也比较困难。”
“不过我想到了一个突围的办法。”
尹志强是属于那种对手越强大，就越有干劲的技术狂人。
眼下芯片设备联盟面对的敌人，显然是异常强大的。
“什么想法？”
曹阳倒是很想知道尹志强这个技术专家能够给出什么好的提议。
“只要我们把蚀刻机的技术做到世界最先进，还把成本做到行业最低，那么其他的芯片厂家就会被动的找我们去购买产品。”
“要不然他们就没有办法使用最先进的蚀刻机，更加没有办法享受到更低的成本。”
尹志强的这个说法，把曹阳给说愣了。
还能这样子破局？
不过听起来好像也不是一点道理都没有啊。
你不买我的设备，没关系，南山半导体买就行。
然后借着这个机会我把我的设备的技术水平干到世界最强。
比如蚀刻机，现在主流的只需要能够完成28纳米的工艺就行了。
我直接把7纳米，甚至5纳米、3纳米的加工工艺给干出来了。
然后成本还只有你能够加工28纳米的蚀刻机的一半！
这个时候你买不买？
不买？
那指不定别人就反超你咯！
买？
那这个僵局不就是自然而然的打破了？
“尹总，你的这个方向完全是可行的！”
“我们南山设备下一步除了推进28纳米工艺的成熟度之外，就是研发14纳米的生产工艺设备。”
“如果蚀刻机能够进一步的做到比14纳米更加先进，那么就算是初步完成了你说的目标。”
成本方面，曹阳没有说任何内容。
因为只要华夏厂家能够生产的设备，成本肯定是比国际设备巨头要便宜一大截的。
现在购买一台蚀刻机要5000万的话，那么中微半导体肯定是2500万可以搞定的。
“28纳米的蚀刻机，我们现在就已经研发出来了，最晚在今年内就具备量产的水平，明年上半年就可以正式的交付给南山半导体使用。”
“与此同时，我准备跳过14纳米的蚀刻机技术，直接研发7纳米的蚀刻机。”
“到时候我们的蚀刻机在今后十年内都不会过时，只需要进行一些技术升级和降成本的活动就行了。”
尹志强对蚀刻机的发展显然是非常有信心的。
“蚀刻机的生产难度虽然不是所有设备中最难的，但也是技术含量很高的，直接跳过14纳米的话，会不会太有挑战性了？”
曹阳虽然希望尹志强能够轻松的完成自己说的方案。
不过还是忍不住多关心了几句。
“曹总，要理解这个方案的可能性，就要涉及到蚀刻技术的工作原理了。”
“我先跟你好好唠叨一下。”
尹志强显然是准备展现一下自己的专业水平，让曹阳相信中微半导体可以搞定更加先进的蚀刻机。
“刻蚀技术可以分为两类，一是使用液态化学品的湿法刻蚀，让硅片在强酸强碱的泡澡淋浴中定量减肥。”
“二是使用气体等离子体的干法刻蚀，让硅片在化学气体的离子轰击下局部瘦身。”
“其中湿法刻蚀的技能早就被人类点亮，比如中世纪的欧洲人，会用酸性溶液，在金属盔甲上蚀刻雕花。”
“明代的《格古要论》中也有记载：凡刀剑器，打磨光净，用金丝矾矾之，其花纹则见。”
“明朝人说的金丝矾就是一种硫酸盐，因此当历史进入集成电路的时代，工程师们首先想到的也是利用各种酸碱的腐蚀性，来大规模地刻出芯片，制程工艺中的刻蚀之名，由此产生。”
“刻蚀中有三个关键指标：刻蚀速率，选择比和方向性。”
“其中刻蚀速率指的是物质被溶解的速度，通常用每分钟损失多少微米的厚度来计量。”
“在芯片制程中，一个部位的刻蚀深度，通常是用刻蚀时长来控制的，因此保证一个精确且恒定的刻蚀速率非常重要，而这对于刻蚀液的纯度，配比，和浓度变化的要求很高。”
“基于化学反应的湿法刻蚀，只能尽量减少横向刻蚀，完全的各向异性它做不到。”
“在芯片制程的早期，器件结构比较粗糙，线宽间距也够大，刻蚀方向性差一点，问题还不大。”
“但随着制程进入次微米级，湿法刻蚀就跟不上芯片的精度要求了，逻辑电路自然不用说，关键层需要纳米级的精密刻蚀，即便像dram之类相对粗糙的存储芯片，要刻出里面又窄又深的电容沟槽，也需要方向感极强的雕刻方法，这就是干法刻蚀。”
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