第1481章 追赶之路，任重道远(1/2)

首发：~第1481章 追赶之路，任重道远

搞科研，是一件长期高投入，却不一定能见到回报的项目。

那时候，我们的经济又相对落后，连建设一个特区，都要依靠举国之力，何况是光刻机这样高投入，却一直落后的、看不到“钱景”的研发项目了。

在当时，许多从事光刻机研究的公司，最终因为没有资金支持而破产。一些院所，同样因为缺乏资金的支持，而停止了光刻机的研发。

还有一个原因是，为了摧毁种花家的自主技术研发之路，西方那些势力跟后来一样。

最先进的技术不给你，但只要你突破了哪个层次的技术，他们就会对你放开哪个层级的技术，用“倾销”的手段，以更低的成本打压、摧毁你，刚刚萌芽的产业。

随着他们的先进技术和设备进入国内，这让我们自主创新的意识受到了冲击，造不如买的思想成为主流。

直接购买和使用国外成熟的技术，应用到我们要开发的产品上，比自己研发制造要高效得多。

各地引进了大量的，国外半导体设备和生产线，大量企业逐渐放弃了光刻机方面的科研。

巨大的冲击，致使我们的光刻技术和产业化，停滞不前。同时，也放弃了电子工业的自主攻关，诸如光刻机等科技计划被迫取消。

直到本世纪的最后一年，如同海湾战争打醒了我们一样，一场科索沃战争，再次让我们惊醒。

以鹰酱为首的北约，用电子战瘫痪了南联盟所有的网络通信系统，令种花家极为震惊。

有关部门多次召开研讨会议，讨论一旦鹰酱用这种方式针对我们，国家的信息安全该如何保证。

于是，踏入二十一世纪之后，光刻机技术，再次被重视了起来。但此时，已经落后人家二十多年了。

不过，我们还是下了很大的决心，哪怕是落后一百年，也要干。用当时的话来说就是“现在做这个东西，难度不亚于生产大飞机，影响力不低于当初研究原子弹”。

于是，我们再次从193纳米起步，110纳米、90纳米......

直至2017年，科学院光学精密机械与物理研究所，牵头研发的“极紫外光刻关键技术”通过验收。

2018年科学院研制的“超分辨光刻装备”通过验收。光刻分辨力达到22纳米，结合双重曝光技术后，还可用于制造10纳米级别的芯片。

2021年28纳米的光刻机交付使用，标志着我们可以自己量产28纳米的芯片了。

到了2022年，则是更进了一步，可以生产14纳米的产品。

虽说跟能生产5纳米、甚至3纳米的阿斯麦的极紫光刻机，还有很大一段距离需要追赶，技术的代差相差极大，但至少我们一直在进步，不是吗？

对于光刻机，核心部件是极紫外光源、光学镜头以及双工作台。

现在我们已经掌握了双工作台技术，以及极紫外光源技术，尤其是纳米级双工作台技术。原来全世界只有河兰的阿斯麦有，现在我们成为了全世界第二个掌握这项技术的国家。

追赶之路，任重道远，但我们不就是一路摸着石头过来的吗？

冬天来了，春天还会远吗？！

如今来说，离国内停止研发光刻机，只有几年的时间，唐伟东准备重新捡起这一块儿来。